7月16日，日本的尼克（Nikkei Asia）发表了一篇文章，上面写着：“中国可以创建自己的ASML吗？”文章指出，中国破坏了光刻技术领域，一旦成功就无视全球芯片设备市场。这种震惊来自中国政府对3440亿元人民币的特别投资，以及在第14五年计划中的100％国内芯片设备的明确目的。从福丹大学的新光刻技术到上海光学学院的EUV光源的突破，中国以其行动对西方技术的封锁做出了反应。日本媒体的惊喜，中国摧毁了障碍的方式，“尼克基亚洲”的特别报道很少承认，中国光刻技术的发展速度是“压倒性的想象力”。报纸的报纸的内部文件表明，华为的东瓜工厂使用激光 - 渗透激光测试了EUV的家用原型释放技术与形成ASML的等离子体方案完全不同。这项现代技术使中国错过了西方障碍。扩展全文
是什么使日本更关心市场信号。从2025年1月到2025年2月，日本的半导体设备出口很少下降，损失分别为6％和1.1％。
日本半导体制造设备协会承认：主要原因是中国公司急剧崩溃。日本设备制造商曾经征服了中国光刻发动机市场的30％，他只能看着中国公司转向国内替代品。
东京高管发行了私下抱怨：“三年前，中国客户要求我们发送商品，但现在的问题更少。”这种变化来自北华北部等中国公司的兴起。它进入了全球芯片设备公司的第六名，该公司摧毁了大都会等主要地区的垄断ching和去除。
在严重的紫外线资源领域，上海光学机械研究所，林南的团队取得了重大成功。
他们删除了带有固态激光器的美国二氧化碳激光技术和激发血浆罐，以达到3.42％的能量转换效率。尽管它仍然是ASML 5.5％的空间，但它是光线灯路线上的世界领先水平。
更重要的是，技术路线的现代。当Fudan University开发“ Wuji”芯片时，它使用光刻系统的无台式掩例直接写作来直接处理晶圆中的特征结构。
该解决方案已经摆脱了在面膜板上传统光刻机器的希望，线宽为0.4微米，处理速度高达180平方毫米/分钟。虽然这段时间无法用于低于7纳米的高级过程，但对于物联网芯片领域的实用性，汽车电子设备等
第三面是在手工艺的尽头。中国科学院微电子学研究所，为响应EUV光刻的红外干扰问题，开发了一种新的辐射抑制模型。该技术可以准确控制收集玻璃上的热负载，并提高光刻系统的稳定性。这是新一代ASML光刻机器的重点。
3440亿元的资本投资，世界的影响
第14个五年计划将芯片设备定位为国家战略工作，显然需要对基本设备（例如光刻机器和蚀刻机）进行突破。
这一考虑的3440亿元人民币特别基金是涵盖整个工业连锁店的研发网络的开发：上海光学机械研究所和长春光学机械和光学机械学院y和光学镜头。华为是系统的集成。
资源的准确规定反映了该国的意愿。在十数千名Banalyzing EUV光刻机器中，中国选择了销毁激光灯，光学镜头和准确性控制的三个主要链接。
上海光学和机械技术研究所的团队可以向前推进，这是因为其主要成员曾担任ASML轻型技术的领导者，并意识到技术瓶颈。
在业务层面，形成了梯队攻击。华为致力于整合EUV，Beifang Huachuang专注于蚀刻设备，而中国微型半导体则通过薄薄的薄膜去除而破坏了。劳动与合作的划分使中国能够将芯片设备的国内生产率从三年中的20％提高到45％。
中国的技术突破有触发d链反应。 ASML在今年年初将年收入预测从400亿欧元降低到350亿欧元，首席执行官Fu Keli承认：“中国市场需求的变化超出了预期。”
更直接的影响来自市场共享。中国曾经贡献了ASML全球收入的36％，但到2024年底，该比例下降到27％。
日本光刻机公司甚至遭受了苦难。尼康将年收入预期降低了50％。尽管佳能没有发布特定的数据，但内部报告表明其光刻机器订单下降了40％。
为了节省市场，日本材料制造商（例如Sumitomo Bakeelite）立即在中国建立工厂，试图通过本地生产来维持其份额。
美国惩罚的强烈影响开始出现。当特朗普政府禁止将EUV光刻机器出口到中国时，就不会预期它将迫使中国的独立整个工业链中的持久变化。
迄今为止，中国不仅减少了进口设备的购买，而且在第三代半导体领域（例如硅Carba和硝酸盐）的西部进步，开辟了一条新的轨道，以限制对基于硅芯片的限制。
中国信心的根源
中国芯片行业的信心来自世界上最大的应用市场。中国的设备支出在2024年达到500亿美元，提供了世界三分之一。这是这种支持，使北部的黄港和其他公司可以通过市场恢复研发，并为“生产改善升级”的良好循环开发。
技术路线的选择还显示了中国智慧。
当ASML专注于在1纳米中推动光刻的准确性时，中国同时开发了特殊的过程，例如三维集成，集成和计算集成。两个维度Fudan University的“ Wuji”芯片使用的Al半导体材料仅消耗一十个基于硅的芯片，并且在物联网，航空航天等领域具有独特的好处。
在通常的设置功能中，更深层的效果。由SMIC和华为开发的先进芯片包装技术获得了苹果的供应链认证；上海微电子28纳米光刻机进入SMIC生产线后，收益率的速度与PR LevelCMC的平台相同。
这些突破已将中国从技术追随者转变为规则参与者。
当ASML总统富·凯利（Fu Keli）宣布“中国无法建造十年来的EUV光刻机器”时，他可能没有读过《自然杂志》中富丹大学的角色。使用国内光刻机器创建32位处理器的整个过程都有详细的记录。
尽管没有注意到日本媒体的秘密图片Ngguan工厂：独立的EANG UV原型进入了会议的最后阶段。
3440亿投资的战略价值逐渐出现。上海光学与机械工程研究所的光源突破，更换福丹大学的过程和北方的阳极设备，已在一个独立的网络网络中织造，以改变中国的光刻技术。
日本的尼克基（Nikkei）担忧正在成为现实：当中国的筹码自给自足率超过60％的分数时，ASML的垄断神话最终将结束。
良好力量的基本工具应该掌握在自己的手中。在第14五年计划上写的钢制规则指导中国光刻机器打开西方封锁的铁幕。历史最终将证明没有技术霸权可以阻止一个国家的决定独立改变。回到Sohu看看更多
